日前，國產(chǎn)超精密儀器行業(yè)喜傳捷報(bào)，哈工大宣布成功研發(fā)“高速超精密激光干涉儀”，該項(xiàng)自主研發(fā)的創(chuàng)新成果，現(xiàn)已成功應(yīng)用于我國350nm至28nm多個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)樣機(jī)集成研制和性能測試領(lǐng)域，為我國光刻機(jī)等高端裝備發(fā)展提供了關(guān)鍵技術(shù)支撐和重要測量手段。

打破關(guān)鍵技術(shù)壁壘，助力芯片裝備發(fā)展

哈爾濱工業(yè)大學(xué)儀器科學(xué)與工程學(xué)院在高精度激光穩(wěn)頻、光學(xué)非線性誤差精準(zhǔn)抑制、高速高分辨力干涉信號處理等多項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)方面實(shí)現(xiàn)重大突破，成功研制系列超精密高速激光干涉儀。這一超精密高速激光干涉儀，正是應(yīng)用于高性能光刻機(jī)的平面光柵激光干涉儀。至此，國產(chǎn)DUV光刻機(jī)又一道關(guān)鍵技術(shù)終被攻克，由此打破高性能光刻機(jī)關(guān)鍵技術(shù)壁壘。

該激光干涉儀激光真空波長相對準(zhǔn)確度最高達(dá)0.96納米，位移分辨力為0.077nm，光學(xué)非線性誤差最低為13pm，最大測量速度為5.37m/s。目前，該系列干涉儀已成功應(yīng)用于我國350nm至28nm多個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)樣機(jī)集成研制和性能測試領(lǐng)域，一舉填補(bǔ)了國內(nèi)在該領(lǐng)域長期的技術(shù)空白，為我國光刻機(jī)等高端裝備發(fā)展提供了關(guān)鍵技術(shù)支撐和重要測量手段。

據(jù)稱，該項(xiàng)創(chuàng)新成果可為我國7nm及以下節(jié)點(diǎn)光刻機(jī)研發(fā)提供重要的共性技術(shù)儲(chǔ)備，高速超精密激光干涉儀設(shè)備的技術(shù)突破，將助力國產(chǎn)高性能光刻機(jī)等芯片制造高端裝備發(fā)展。

平面光柵激光干涉儀是高性能光刻機(jī)的核心部件，為具備亞納米測量精度的超精密測量設(shè)備。在光刻機(jī)上主要用于測量光刻機(jī)鏡頭、掩膜版、雙工件臺(tái)等重要部件的精確位置信息，是保障高性能光刻機(jī)加工精度的關(guān)鍵部件。

自主研發(fā)創(chuàng)新成果，達(dá)到國際先進(jìn)水平

“高速超精密激光干涉儀”，由哈爾濱工業(yè)大學(xué)儀器科學(xué)與工程學(xué)院胡鵬程教授團(tuán)隊(duì)研制，榮獲中國光學(xué)工程學(xué)會(huì)主辦的首屆“金燧獎(jiǎng)”金獎(jiǎng)?！敖痨莳?jiǎng)”，旨在面向國家重大戰(zhàn)略需求，突出創(chuàng)新主體地位，促進(jìn)關(guān)鍵核心技術(shù)攻關(guān)，突破“卡脖子”技術(shù)難題，重點(diǎn)評選出我國自主研發(fā)、制造、生產(chǎn)的高端光電儀器，為助力我國自主研發(fā)的科學(xué)儀器搶占科技制高點(diǎn)、樹立民族品牌自信、展現(xiàn)自主核心競爭力創(chuàng)造新的機(jī)遇。

譚久彬院士指導(dǎo)的胡鵬程教授團(tuán)隊(duì)專注于高速超精密激光干涉儀研發(fā)，以解決制約我國高端裝備發(fā)展和量子化計(jì)量基準(zhǔn)等前沿研究的“卡脖子”問題。該團(tuán)隊(duì)突破系列核心測量方法和工程化關(guān)鍵技術(shù)，解決了該領(lǐng)域存在的“測不準(zhǔn)”、“測不精”、“測不快”的核心難題，共獲授權(quán)發(fā)明專利113項(xiàng)（其中國際專利6項(xiàng)），制定相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)2項(xiàng)。

在此基礎(chǔ)上，該團(tuán)隊(duì)研制了HUE-D/S/X系列高速超精密激光干涉儀并進(jìn)行小批量生產(chǎn)，經(jīng)3位院士等專家鑒定，儀器整體技術(shù)達(dá)到國際先進(jìn)水平，3項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)處于國際領(lǐng)先。